2026-03-10T00:49:39Z https://ir.kagoshima-u.ac.jp/oai

oai:ir.kagoshima-u.ac.jp:00006372 2026-03-03T23:27:36Z 228:280:5037 41:42

高配位シリカートを経由するシクロヘキサン誘導体の立体選択的合成 Stereoselective Synthesis of Cyclohexane Derivatives via Extracoordinated Silicate 錦織, 寿 68171 NISHIKORI, Hisashi 伴, 知篤 68172 BAN, Tomoatsu 細見, 彰 68173 HOSOMI, Akira 400 自然科学 ケイ素化合物は種々の求核剤と反応してLewis酸性と塩基性を併せ持つユニ-クな性質を有する高配位ケイ素化合物を形成する.この高配位ケイ素化合物であるキラルな高配位シリカ-トを反応系中で形成させ,エナンチオ選択的な不斉Michael付加反応への適用について検討を行った.その結果,Michael付加反応が進行後,分子内環化・脱水反応が連続して起った環化生成物を良好な立体選択性(最高で>99%de,71%ee)で得ることができた. departmental bulletin paper 鹿児島大学 Kagoshima University 2006 VoR application/pdf 鹿児島大学教育学部研究紀要. 自然科学編 57 13 19 Bulletin of the Faculty of Education, Kagoshima University. Natural science 03896692 AN00408518 https://ir.kagoshima-u.ac.jp/record/6372/files/KJ00004373367.pdf http://hdl.handle.net/10232/1072 https://ir.kagoshima-u.ac.jp/records/6372 jpn open access