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  1. 掲載誌一覧
  2. 鹿児島大学工学部研究報告
  3. vol.20
  1. 工学部
  2. 工学部・紀要論文

ハイレートスパッタリング装置の製作

http://hdl.handle.net/10232/12709
http://hdl.handle.net/10232/12709
fa55a595-c876-40a7-a630-dc9a63e93648
名前 / ファイル ライセンス アクション
AN00040363_v20_p93-96.pdf AN00040363_v20_p93-96.pdf (1.1 MB)
Item type 紀要論文 / Departmental Bulletin Paper(1)
公開日 2015-06-16
タイトル
タイトル ハイレートスパッタリング装置の製作
タイトル言語 ja
タイトル
タイトル THE MANUFACTURE OF THE HIGH RATE SPUTTERING
タイトル言語 en
著者 鶴丸, 哲哉

× 鶴丸, 哲哉

ja 鶴丸, 哲哉

en TSURUMARU, Tetsuya

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坂元, 渉

× 坂元, 渉

ja 坂元, 渉

en SAKAMOTO, Wataru

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大串, 哲彌

× 大串, 哲彌

ja 大串, 哲彌

en OGUSHI, Tetsuya

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沼田, 正

× 沼田, 正

ja 沼田, 正

en NUMATA, Tadashi

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言語
言語 jpn
資源タイプ
資源タイプ識別子 http://purl.org/coar/resource_type/c_6501
資源タイプ departmental bulletin paper
アクセス権
アクセス権 open access
アクセス権URI http://purl.org/coar/access_right/c_abf2
要約
内容記述タイプ Other
内容記述 Usual sputtering methods have a weakpoint that sputtering current is a little and a sticking velocity is low during the deposition process. We have been troubled by low germanium sticking coefficient in producting a Nb_3Ge thin film. Therefore, in order to make it higher, we manufactured the high rate sputtering apparatus wherein a magnetic field is perpendicular to an electric field in contradiction to a parallel electric field in the former. Utilizing this apparatus, we could increase the sputtering current
by nearly 2-3×10 times. As a result, germanium sticking coefficicnt was made higher to obtain a stoichi-ometeic Nb_3Ge and also this method was clarified to be very useful in shortening the sputtering time.
内容記述言語 en
収録雑誌名 ja : 鹿児島大学工学部研究報告
en : The research reports of the Faculty of Engineering, Kagoshima University

巻 20, p. 93-96, 発行日 1978-09
作成日
日付 1978-09
日付タイプ Issued
ISSN
収録物識別子タイプ PISSN
ISSN 0451212X
NII書誌ID(雑誌)
収録物識別子タイプ NCID
NC ID AN00040363
出版タイプ
出版タイプ VoR
出版タイプResource http://purl.org/coar/version/c_970fb48d4fbd8a85
NDC
主題Scheme NDC
主題 549
公開者・出版者
出版者 鹿児島大学
出版者言語 ja
公開者・出版者
出版者 Kagoshima University
出版者言語 en
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Ver.1 2023-07-25 09:48:14.062795
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